酸性纳米二氧化硅分散体纳米湿法研磨机，酸性分散体纳米湿法研磨机，高剪切多功能均质湿法研磨机，实验室微型管线湿法研磨机由1-3个工作腔组成，在马达的高速驱动下，物料在转子与定子之间的狭窄间隙中高速运动，形成紊流，物料受到更强液力剪切、离心挤压、高速切割、撞击和研磨等综合作用，从而达到分散、乳化、破碎的效果。被加工物料本身和物理性质和工作腔的数量以及控制物料在工作腔中停留的时间决定了粒径分布范围及均化、细化的效果和产量的大小。
Sili1015YSS是一款酸性的纳米二氧化硅分散体，具有很好的均匀度和稳定性，主要用于阳离子体系的电镀封闭剂、涂层的耐盐雾剂。
应用与特性
应用领域
l 电镀封闭剂
l 防腐耐盐雾剂
特性
l pH为酸性的分散液
l 纳米级的原生颗粒
l 出众的流变特性
l 极低的助剂添加量
外观
Sili1015YSS是一种乳白色半透明状液体。
物理化学数据
项目
单位
典型值
SiO2含量
%
15.0±1.0
pH
3.0-5.0
粘度
cP
＜150cP
杂质含量
氧化钙
ppm
＜20
氧化铁
ppm
＜10
氧化钛
ppm
＜20
*给出的数据为典型值，非生产数据
影响研磨效果的因素：
1 磨头的形式（卧式和立式）
2 磨头头的剪切速率
3 磨头的齿形结构（见磨头结构）
4 物料在磨头墙体的停留时间，乳化分散时间
5 循环次数
研磨速率的定义是两表面之间液体层的相对速率。
研磨速率 (s-1) = v 速率 (m/s)
g 定-转子 间距 (m)
由上可知，研磨速率取决于以下因素：
– 磨头的线速率
– 在这种请况下两表面间的距离为转子-定子 间距。 （相对而言）
速率V= 3.14 X D（转子直径）X 转速 RPM / 60
IKN设备的作用力为F=23/0.7X1000=32857 S-1
F=40/0.7/X1000=57142 S-1
而对ERS模块头，磨头的间歇G理论可以无限小，但是由于高速的运转，造成轴的振动，需要一定的间歇，作用力可以无限大，但实际上比胶体磨要好。这是粉碎研磨的重要因素，相当于国内胶体磨的2-3倍。流量为0-50KG/H，腔体带夹套，可以进行加热或冷却，采用进口DANFOSS变频器对速度进行调节，设备体积适中，电机选用的是进口ABB电机，西门子防爆电机。结构设计采用的事目前zui流行的分体结构，密封可选择德国机械密封，转速可以达到15000转。
在一般的情况下，我们的机械密封可以zui大承受16bar 压力，根据机械密封的压力一般要高于密封腔体的压力2-3bar ,这就决定我们的入口zui大压力可以达到12-13 bar .
【验室研发型分散机核心优势】
专为实验室研发，模拟生产流程，为量产提供可靠的数据论证。该中试型设备和大型量产设备的配置相同，且分散头的种类及相应线速度也相同，中试过程中的工艺参数在量产化之后不要重新调整，而将机器型号升级过程中的风险降到更低。
IKN小型分散机ERS2000/4可用于小试研发，以及中试验证。处理量可从2L-300L，充分满足研发的需求和中试的验证。IKN分散机设备都是线性放大的，小试设备和工业化设备效果一致，小试摸索的参数可直接放大到工业化生产用。
研发型分散机在设计上的突出特点
① 可更换式加工模块，实现混合，分散，均质，分散，悬浮，湿磨，液粉混合等多种功能。
②小试到中试， 中试到生产，无需重新调整工艺参数。
③ 轴封材料为PTFG，易于更换。
④ 可配置变频控制柜，调节转速及流量。
IKN研发用分散机主要参数
1、主轴转速：0-14000rpm；
2、线速度：0-44m/s；
3、定转子结构：三层定转子；
4、定转子间隙：0.2-0.3mm；
5、处理量：0-300L/H；
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ERS2000系列纳米分散湿法研磨机特点：
1、传统高剪切湿法研磨机均为单级湿法研磨机，也就是一组定转子（乳化头），单级湿法研磨机在物料的剪切力以及生产效率上存在很大的局限性。上海依肯机械设备有限公司的研发人员进行不断的摸索和实验，开发出新型的三级湿法研磨机，三组定转子同时运转，增强了剪切力、提高了生产效率。可以使物料得到纳米级物料粒径，并且体系更加均匀。
2、IKN纳米湿法研磨机提速方面也有着重大的改进。高的转速和剪切率对于获得超细微悬浮液是至关重要的。根据一些行业的特殊要求，上海IKN在ER2000的基础上又开发出ERS2000系列。其剪切速率可以超过10000rpm，转子的速度可以达到40m/s。在该速度范围内，由剪切力所造成的湍流结合专门研制的电机可以使粒径范围小到纳米级。剪切力更强，乳液的粒径分布就更窄。
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