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环球金鑫 多种规格一氧化硅，蒸发料，镀膜材料

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北京环球金鑫国际科技有限公司

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加工定制
是
种类
化合物半导体
特性
度保障，晶粒度小，致密度高
用途
实验或研究级别用靶材，电子，光电，装饰，功能薄膜等
规格
不规则块状、1-3mm颗粒、300目粉末
度
99.99％


一氧化硅.

度：4N

化学符号：SiO
分 子 量：44.08

规 格：300目粉末 5-10mm块状 1-3mm颗粒50.8*5,76.2*5,101.6*5等其他规格可根据客户需求定做

熔 点：1700℃
密 度：2.1g/cm3
折 射 率(波长/nm)：1.8-1.9(550)
 1.7(6000)
透明波段/nm：500-8000
相对介电常数:6
损耗因数：0.015-0.02
频 率/kHz：1-103
坩 埚：Ta
蒸发源方式：Ta、Mo
沉积技术：蒸镀
溶 解 于：王水
在10-4Torr蒸发温度：850℃
薄膜的机械和化学性质：适用电阻蒸发，应用低速率。低压下快速蒸发。
应 用：保护膜，冷光膜，装饰膜

注：规格可根据客户要求定做

北京环球金鑫国际科技有限公司从事光学镀膜材料、磁控溅射靶材、材料、粉末的研发生产和销售。产品广泛应用于，航空航天，新能源，LED，电子与半导体，平面显示行业，建筑与汽车玻璃行业，薄膜太阳能行业，磁存储行业，表面工程（装饰

环球金鑫 多种规格一氧化硅，蒸发料，镀膜材料
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