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供应中频磁控镀膜设备

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¥面议 更新于:2012-07-02 10:34:00
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所在地区

广东省 东莞市

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该系列设备主要集中频磁控溅射、电弧离子蒸发和离子源及脉冲偏压结合等技术为一体,实行全自动化控制。此设备广泛应用于表带、表壳、手机壳、五金、餐具等工件上镀制 TiN,TiC,TiCN、TiAIN,CrN,Cu,Au,Al2O3等各种装饰膜层。 参数说明: 型号 JTL-1090 JTL-1110 JTL-1312 JTL-1613 真空室尺寸 Φ 1000Χ900mm Φ 1100Χ1000mm Φ 1300Χ1200 mm Φ 1600Χ1300 mm 镀膜方式及主要配置 3个电弧+平面矩形阴极2对 6个电弧+圆柱阴极2对+平面矩形阴极1对 6个电弧+圆柱阴极4对+平面矩形阴极1对 8个电弧+圆柱阴极8对+平面矩形阴极1对 镀膜种类 金属膜,介质膜,化合物膜,反应膜,多功能层次膜 电源 电弧电源,真空磁控电源,中频磁控电源,脉冲偏压电源,离子源电源 真空室结构 立式前(单)开门,后置抽气系统,双层水冷 真空系统组成 分子泵(扩散泵)+罗茨泵+机械泵 极限真空 8.0Χ10-4 抽气时间 大气抽至3Χ10-3Pa≤15min 工件运动方式 公 /自转,变频调速 工件烘烤温度 常温到 350oC可调可控 控制方式 全自动化控制 PC+PLC/PC+HMI 备注 该设备可按客户产品及特殊工艺要求订做
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