我司生产的精细研磨液是将精选的微米、亚微米级磨料分散在水、油等介质中而成,具有良好的研磨抛光性能,主要应用于光通信、硅片、光学晶体、液晶面板、宝石、金相分析等领域。根据磨料种类产品主要分为金刚石研磨液、碳化硅研磨液、氧化铝研磨液、氧化铈研磨液、二氧化硅抛光液(CMP抛光液)。
产品特性
◆ 精选磨料,颗粒形貌规整、粒度分布集中,具有良好的研磨抛光效果;
◆ 磨料分散性和悬浮性良好,使用方便,不会造成工件表面的划伤;
◆ 易清洗,研磨速率稳定,抛光一致性好。
产品型号
型号 磨料 粒径/μm 浓度/% 介质
PS-SC3 碳化硅 3 50 水
PS-AO2 氧化铝 2 50 水
PS-AO1 1 50 水
PS-CO1 氧化铈 1 50 水
PS-CO0.5 0.5 50 水
应用领域
◆ 光通讯行业中陶瓷插芯、塑料MT插芯、光纤阵列的研磨抛光;
◆ 光学玻璃、晶体、LCD基板的精密抛光和修复;
◆ 硅片、化合物半导体硅片、LED蓝宝石衬底的抛光。
包装及储存
1. 采用高密度聚乙烯瓶包装,主要包装是250ml、500ml;
2. 贮存时应避免曝晒,贮存温度为0-40℃,低于0℃可能会结块失效。