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CVD真空气氛管式炉

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￥面议 更新于:2017-05-20 11:03:00
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合肥日新高温技术有限公司

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7.4

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CVD真空气氛管式炉应用领域：

CVD真空气氛管式炉广泛适用于高、中、低温CVD工艺，例如：碳纳米管的研制、晶体硅基板镀膜、纳米氧化锌结构的可控生长等等，也可适用于金属材料的扩散焊接及真空或保护气氛下热处理


CVD真空气氛管式炉的技术指标：


设备型号
CVD(D)-06/60/3
CVD(Z)-06/30/1
CVD(G)-07/50/2
CVD(G)-09/50/1
限高温度
1050℃
1350℃1650℃1650℃
使用温度
RT-1000℃
850~1300℃
1000~1600℃
1000~1600℃
控制精度
±1.5℃
±1.5℃±1.5℃±1.5℃
温区个数
3
1
2
1
加热区长度
600mm
300mm
500mm
500mm
炉管尺寸
60x1400mm
60x1000mm
70x1450mm
90x1450mm
炉管材料
石英管
刚玉管
刚玉管
刚玉管
发热元件
电阻丝
电阻丝/硅碳棒
硅钼棒、电阻丝
硅钼棒
装机功率
4.5kw
3kw/8kw
10kw
12kw




CVD真空气氛管式炉
产品分类
实验设备 工业设备
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