厂家直销 纳米实验室胶体磨 小型胶体磨

纳米实验室中试型胶体磨的细化作用一般来说要弱于均质机，但它对物料的适应能力较强（如高粘度、大颗粒），所以在很多场合下，实验室中试型胶体磨用于均质机的前道或者用于高粘度的场合。在固态物质较多时也常常使用胶体磨进行细化。 物料粘度或固含量高导致不能正常进料和输送时，须选用压力或输送泵进料或送料，输送泵的压力和流量与被选机型相匹配。
GM2000/4纳米实验室中试型胶体磨是专门为胶体溶液生产所设计，特别是那些需要很好乳化和分散效果的胶体生产。 GM2000/4实验室中试型胶体磨的线速度很高，剪切间隙非常小，这样当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨。 GM2000/4实验室中试型胶体磨的定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种要求。
公司另外一项独特的创新，就是锥体磨GMO2000系列，它的设计使其功能在原有的GM2000的基础上又进了一步。由于这项创新，GMO2000能够湿磨和研磨，产生的颗粒粒径甚至比胶体磨GM2000还小。研磨间隙可以无级调节，从而可以得到的研磨参数。

研磨头的表面涂上了一层极其坚硬的硬质材料，从而使其表面具有非常粗糙的纹理。这种硬质材料是由碳化物、陶瓷等量物质构成，并且具有不同的粒径。研磨头处形成了一个具有强烈剪切的区域，可以输送高粘度和低粘度物料，但它的分散效果和后的粒径大小都比胶体磨GM的效果更加理但它的分散效果和后的粒径大小都比胶体磨GM的效果更加理想。

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