化学机械抛光技术(CMP Chemical Mechanical Polishing )综合了化学和机械抛光的优势:单的化学抛光,抛光速率较快,表面光洁度高,损伤低,完美性好,但表面平整度和平行度差,抛光后表面一致性差;单的机械抛光表面一致性好,表面平整度高,但表面光洁度差,损伤层深。化学机械抛光可以获得较为完美的表面,又可以得到较高的抛光速率,得到的平整度比其他方法高两个数量级,是目前能够实现全局平面化的有效方法。纳米镜面研磨液又称湿抛液,适用于铝合金、铜、不锈钢、贵金属等的镜面抛光。广泛应用于金属LOGO标志的镜面自动抛光处理,配合平面研磨机使用。
产品应用对照表:
产品 | Sample-G11 砂光液 | Sample-G12 中磨液 | Sample-G13 精磨液 | Sample-G15 洗净剂 | Sample-G16 洗净剂 |
适用范围 | 铝材/不锈钢镜面抛光 | 铝材/不锈钢镜面抛光 | 铝材/不锈钢镜面抛光 | 铝材/不锈钢镜面抛光 | 铝材/不锈钢镜面抛光 |
外 观 | 乳白色液体 | 乳白色液体 | 乳白色液体 | 透明液体 | 透明液体 |
使用浓度 | 8-10% | 8-10% | 8-10% | 8-10% | 8-10% |
使用温度 | 常温 | 常温 | 常温 | 65℃-85℃ | 65℃-85℃ |
配套设备 | 平面研磨机 | 平面研磨机 | 平面研磨机 | 超声波 | 超声波 |
包装方式 | 5 kg | 5 kg | 25 kg | 25 kg | 25 kg |
产品 | Sample-G20 研磨剂 | Sample-G21 光亮剂 | | | |
适用范围 | 铝材/不锈钢/合金去振动去毛刺 | 铝材/不锈钢/合金研磨抛光 | | | |
外 观 | 透明液体 | 透明液体 | | | |
使用浓度 | 视工件大小而定 | 视工件大小而定 | | | |
使用温度 | 常温 | 常温 | | | |
配套设备 | 振动研磨机 | 振动研磨机 | | | |
包装方式 | 25 kg | 25 kg | | | |