英国Thermco公司扩散炉氧化炉

英国Thermco公司扩散炉、LPCVD、氧化炉、退火炉、合金化炉  产品概述 英国Thermco Systems公司成立于1962年，是世界上著名的卧式扩散炉、氧化炉、退火炉、合金化炉及LPCVD炉的制造商，在全球各处的半导体制造厂里都有大量的安装应用，迄今为止安装记录已超过20000管。 根据基片尺寸以及产量要求的不同，HTR系列可分为6200，5100/5200，4500/4900，2400/2600等；可处理4¨~10¨的基片，每管处理能力分别可达25片、50片或100片；根据配置不同的工艺气源及温度控制范围，各型号的产品均可用于LPCVD、扩散及氧化等热处理反应工艺。  产品应用 标准半导体工艺 •LPCVD氮化硅（标准型) •LPCVD氮化硅（低应力型） •LPCVD斜坡温度多晶硅 •LPCVD一致晶粒多晶硅 •LPCVD氧化层TEOS（正硅酸乙脂） •LPCVD VLTO（低温氧化） •LPCVD BPSG（硼磷硅玻璃） • 高温氧化 • 干法氧化 • 湿法氧化 • 掺杂扩散 （3-4路液相掺杂管路 ( POCL3 or BBR3)） • 5-6路TCA或Hcl气路 • 混合气体退火 • 高温热回火 • 低温退火和合金化 • 高温驱入（Drive in） 标准LED工艺 •高真空退火（环境可控） •低温合金化/退火 标准PV（太阳能）工艺 •湿氧/干氧 •PN结驱入 •Forming气体退火 •氢气退火 •低温热处理 •POCl3，BBr3 PN结和槽 •反射氮化膜（ARC Nitride coating） 标准MEMS（微机电）工艺 •低应力CVD氮化物 •氧氮化物SIPOS •厚氧 •TEOS，良好的台阶覆盖能力 •多晶硅和掺杂多晶硅